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日本thermo高溫材料用紅外線真空爐

日本thermo高溫材料用紅外線真空爐

產(chǎn)品型號(hào): IVF198RV

所屬分類:

產(chǎn)品時(shí)間:2024-09-07

簡要描述:日本thermo高溫材料用紅外線真空爐IVF198RV
利用在真空和各種氣體氣氛中的高溫退火裝置,可以容易地進(jìn)行通過紅外加熱和清潔加熱的快速加熱。
一種臺(tái)式紅外真空爐,由紅外輻射部分,真空室,程序溫度控制器和安全裝置組成

詳細(xì)說明:

日本thermo高溫材料用紅外線真空爐IVF198RV

 

說明?

利用在真空和各種氣體氣氛中的高溫退火裝置,可以容易地進(jìn)行通過紅外加熱和清潔加熱的快速加熱。
一種臺(tái)式紅外真空爐,由紅外輻射部分,真空室,程序溫度控制器和安全裝置組成。
有真空室型和石英管法蘭型。

特點(diǎn)

 

大加熱速度為150℃/秒,加熱時(shí)間為1500℃約1min
清潔加熱,不影響從熱源散發(fā)的氣體或電磁感應(yīng)
可以選擇觀察熱樣品。

用途?

真空/氣流中的樣品退火
半導(dǎo)體樣品(例如硅和SiC)和氧化物的熱處理
石墨烯和CNT加熱
高溫材料(例如高耐熱金屬和陶瓷)的溫升測(cè)試
在氧氣,氫氣等氣流中退火
潤濕性測(cè)試

日本thermo高溫材料用紅外線真空爐IVF198RV

規(guī)格

紅外真空爐IVF系列具有以下規(guī)格的產(chǎn)品。
  
 
 石英管類型房車類型 加熱氣流中樣品的理想選擇。
 面對(duì)面照射石英管型簡歷類型 從上方和下方照射紅外線。
 用于加熱固體和粉末。
 聚焦照射方式W型 由于開口較寬,因此易于打開和關(guān)閉樣品。
 帶有端口的大量腔室可用于各種實(shí)驗(yàn)。
 表面照射類型P型/ PD型 用于加熱2英寸大小的樣品。
  
 
 石英管式紅外真空爐IVF-RV型
型號(hào)名稱IVF198RVIVF298RV
 紅外燈額定值1千瓦2千瓦
 gao溫度1400°攝氏度1600°攝氏度
 加熱面積φ20毫米
 大加熱速度50°C /秒100°C /秒
 大極限真空5×10 -4
 冷水量1升/分鐘2升/分鐘

 面對(duì)面照射石英管式紅外真空爐IVF-CV型

型號(hào)名稱IVF198CVIVF298CV
 紅外燈額定值1千瓦2千瓦
 gao溫度1500°攝氏度1700°攝氏度
 加熱面積φ10毫米x 10毫米φ15毫米x 10毫米
 大加熱速度50°C /秒100°C /秒
 大極限真空5×10 -4
 冷水量1升/分鐘2升/分鐘

聚焦輻照紅外真空爐IVF-W

型號(hào)名稱IVF198WIVF298W
 紅外燈額定值1千瓦2千瓦
 gao溫度1300°攝氏度1500°攝氏度
 加熱面積?φ20毫米
 大加熱速度50°C /秒100°C /秒
 大極限真空5×10 -4
 冷水量1升/分鐘2升/分鐘

表面照射型紅外線真空爐IVF-P / PD型

型號(hào)名稱IVF29PIVF29PDIVF39PD
 紅外燈額定值2千瓦2千瓦x 23千瓦x 2
 gao溫度800°攝氏度1000°攝氏度1200°攝氏度
 加熱面積φ50毫米
 大加熱速度20°C /秒50°C /秒
 大極限真空5×10 -4 P
 冷水量2升/分鐘

 



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