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日本三明電子sanmei三維抗蝕劑涂布裝置

日本三明電子sanmei三維抗蝕劑涂布裝置

產(chǎn)品型號: DC111

所屬分類:

產(chǎn)品時間:2024-09-06

簡要描述:日本三明電子sanmei三維抗蝕劑涂布裝置DC111
設(shè)備是為MEMS器件和各種半導體研究開發(fā)的噴涂機。
1,支持MEMS器件
2,在不平坦的表面上均勻涂膜厚度
3,通孔和溝槽填充應用
4,配有加熱器內(nèi)置的樣品架。樣品溫度gao可控制在100°C。
5,伺服電機使用我們的“ Si-servo",它具有低振動,低熱量產(chǎn)生和高精度的特點。
6,特殊規(guī)格也可提供。

詳細說明:

日本三明電子sanmei三維抗蝕劑涂布裝置DC111


設(shè)備是為MEMS器件和各種半導體研究開發(fā)的噴涂機。
 1,支持MEMS器件 
2,在不平坦的表面上均勻涂膜厚度 
3,通孔和溝槽填充應用 
4,配有加熱器內(nèi)置的樣品架。樣品溫度gao可控制在100°C。 
5,伺服電機使用我們的“ Si-servo”,它具有低振動,低熱量產(chǎn)生和高精度的特點。
6,特殊規(guī)格也可提供。

特征

1.可以進行高精度,均勻的膜厚涂布?

使用可以制成微粒的噴嘴,即使在常規(guī)旋涂器難以涂覆的區(qū)域,例如基材的傾斜表面,梯形和直角頂點,也可以形成均勻的膜。
另外,可以將內(nèi)嵌的抗蝕劑施加到微調(diào)器難以實現(xiàn)的空腔,通孔和溝槽結(jié)構(gòu)上。
適用的膜厚從旋轉(zhuǎn)器級薄膜到超厚膜。膜厚度可以為1μm至600μm。(取決于化學性質(zhì)。)

2.可以使用多種化學溶液

它支持AZ電子材料的AZ-P4000系列,Kayak Microchem Co.的SU8,KMPR系列等,
以及苯并環(huán)丁烯樹脂(BCB)和各種聚合物。
也可以使用高粘度化學品。(取決于化學性質(zhì)。)

3.減少化學藥品的浪費

由于它被涂到小的必要表面上,因此不會浪費化學液體,例如旋涂。
另外,由于注射器被放置在噴霧單元附近,因此藥液管線中的廢物少。

日本三明電子sanmei三維抗蝕劑涂布裝置DC111

 技術(shù)指標 基本規(guī)格

項目規(guī)范
設(shè)備*名稱DC111
噴涂機
格式噴嘴移動/樣品固定噴涂方法
樣品臺尺寸DC111:220×220mm□
噴嘴移動范圍DC111:垂直和水平300毫米
噴嘴移動速度10-300毫米/秒
化學品體積控制系統(tǒng)通過化學空氣進料和微針
顆粒大小大約5-15μm(取決于所用的流體)

 效用

項目規(guī)范
清潔干燥的空氣5Kg / cm 2(≒0.5Mpa)15升/分鐘以上
(氣管連接口Φ6mm一觸式接頭)
電源供應DC111:1ΦAC100V 1800瓦
排氣外部排氣量2300升/分鐘
(連接管直徑Φ100mm)

 外形尺寸和重量

項目內(nèi)容
身體尺寸DC111:1000 x 650 x 680毫米(高x闊x深)
(不包括突起)
重量DC111:100公斤

 



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